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美國(guó)AST光譜反射薄膜分析儀SE200BM300BM系列

AST橢圓偏振光譜薄膜測(cè)厚儀SE200-300BM

產(chǎn)品簡(jiǎn)介:

SE橢偏儀系列薄膜分析產(chǎn)品來(lái)自美國(guó)AST公司,其可以實(shí)現(xiàn)薄膜厚度精準(zhǔn)測(cè)量,同時(shí)可以實(shí)現(xiàn)12層的薄膜厚度測(cè)試,同樣對(duì)于材料NK參數(shù)也可以實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確測(cè)量,為人們針對(duì)薄膜進(jìn)行分析提供了極大便利。

特點(diǎn):
· 易于安裝
· 基于視窗結(jié)構(gòu)的軟件,很容易操作
· 先進(jìn)的光學(xué)設(shè)計(jì),以確保能發(fā)揮出最佳的系統(tǒng)性能
· 能夠自動(dòng)的以0.01度的分辨率改變?nèi)肷浣嵌?br /> · 高功率的DUV-VIS光源,能夠應(yīng)用在很寬的波段內(nèi)
· 基于陣列設(shè)計(jì)的探測(cè)器系統(tǒng),以確??焖贉y(cè)量
· 最多可測(cè)量12層薄膜的厚度及折射率
· 能夠用于實(shí)時(shí)或在線的監(jiān)控光譜、厚度及折射率等參數(shù)
· 系統(tǒng)配備大量的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)及數(shù)據(jù)庫(kù)
· 對(duì)于每個(gè)被測(cè)薄膜樣品,用戶可以利用先進(jìn)的TFProbe3.0軟件功能選擇使用NK數(shù)據(jù)庫(kù)、也可以進(jìn)行色散或者復(fù)合模型(EMA)測(cè)量分析;
· 三種不同水平的用戶控制模式:專家模式、系統(tǒng)服務(wù)模式及初級(jí)用戶模式
· 靈活的專家模式可用于各種獨(dú)特的設(shè)置和光學(xué)模型測(cè)試
· 健全的一鍵按鈕(Turn-key)對(duì)于快速和日常的測(cè)量提供了很好的解決方案
· 用戶可根據(jù)自己的喜好及操作習(xí)慣來(lái)配置參數(shù)的測(cè)量
· 系統(tǒng)有著全自動(dòng)的計(jì)算功能及初始化功能
· 無(wú)需外部的光學(xué)器件,系統(tǒng)從樣品測(cè)量信號(hào)中,直接就可以對(duì)樣品進(jìn)行精確的校準(zhǔn)
· 可精密的調(diào)節(jié)高度及傾斜度
· 能夠應(yīng)用于測(cè)量不同厚度、不同類型的基片
· 各種方案及附件可用于諸如平面成像、測(cè)量波長(zhǎng)擴(kuò)展、焦斑測(cè)量等各種特殊的需求
· 2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數(shù)據(jù)管理界面。

系統(tǒng)配置:
· 型號(hào):SE200BM-M300
· 探測(cè)器:陣列探測(cè)器
· 光源:高功率的DUV-Vis-NIR復(fù)合光源
· 指示角度變化:手動(dòng)調(diào)節(jié)
· 平臺(tái):ρ-θ配置的自動(dòng)成像
· 軟件:TFProbe 3.2版本的軟件
· 計(jì)算機(jī):Inter雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器
· 電源:110–240V AC/50-60Hz,6A
· 保修:一年的整機(jī)及零備件保修

規(guī)格:
· 波長(zhǎng)范圍:250nm到1000 nm
· 波長(zhǎng)分辨率: 1nm
· 光斑尺寸:1mm至5mm可變
· 入射角范圍:0到90度
· 入射角變化分辨率:5度 間隔
· 樣品尺寸:最大直徑為300mm
· 基板尺寸:最多可至20毫米厚
· 測(cè)量厚度范圍*:0nm〜10μm
· 測(cè)量時(shí)間:約1秒/位置點(diǎn)
· 精確度*:優(yōu)于0.25%
· 重復(fù)性誤差*:小于1 Ǻ

選項(xiàng):
· 用于反射的光度測(cè)量或透射測(cè)量
· 用于測(cè)量小區(qū)域的微小光斑
· 用于改變?nèi)肷浣嵌鹊淖詣?dòng)量角器
· X-Y成像平臺(tái)(X-Y模式,取代ρ-θ模式)
· 加熱/致冷平臺(tái)
· 樣品垂直安裝角度計(jì)
· 波長(zhǎng)可擴(kuò)展到遠(yuǎn)DUV或IR范圍
· 掃描單色儀的配置
· 聯(lián)合MSP的數(shù)字成像功能,可用于對(duì)樣品的圖像進(jìn)行測(cè)量